光固化3D打印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

一、光固化3D打印產品介紹

設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。

二、光固化3D打印基本參數

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）

文件格式：STL

系統外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域。

作為微納3D打印行業，在三維復雜結構微納加工領域，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗，針對客戶在項目研究中可能出現的工藝和材料難題，我們將持續提供簡易高效的技術支持方案。