nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

一、產品介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。

二、基本參數

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）

文件格式：STL

系統外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域

四、企業簡介

摩方精密（BMF,Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技術及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發，提供制造復雜三維微納結構技術解決方案，同時，可結合不同材料及工藝，實現終端產品高效、低成本批量化生成及銷售。