microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

產(chǎn)品型號(hào)：microArch S240A

更新時(shí)間：2024-09-18

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品分類

3D打印系統(tǒng)

復(fù)合精度3D打印系統(tǒng) 金屬3d打印機(jī) 10μm精度 25μm精度 2μm精度

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品牌	摩方精密	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥
光學(xué)精度	10μm

一、產(chǎn)品介紹

microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PµSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

*的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹脂，從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)、功能更強(qiáng)大的零部件；
能夠打印工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料。

二、系統(tǒng)性能

打印技術(shù) PμSL (面投影微立體光刻技術(shù))	光源 UV-LED	波長(zhǎng) 405nm
打印材料光敏樹脂/陶瓷	輸入數(shù)據(jù)文件格式 STL	光學(xué)分辨率 10μm
打印尺寸 100 × 100 × 75 mm	層厚 10-40μm	公差 +/- 25μm
設(shè)備功率 3000W	打印主機(jī)尺寸 650 x 700 x 790 mm	打印機(jī)重量 350kg
電壓 220V	認(rèn)證證書 CE

三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。

工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。

個(gè)性化

高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。

四、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印，從而實(shí)現(xiàn)超高精度大幅面的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

10μm高精度微納3D打印